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6分钟前 锡山曝光显影公司信赖推荐 清溪利成感光[利成感光38dbdb8]内容：3D玻璃遮蔽可以移印，贴合，曲面角度小还是可以做贴合工艺；还有就是曝光显影；比如vivo X21，是中间贴膜，四周用喷墨曝光显影补线方式。将需要的图形根据油墨的感光特性制成掩膜板（光罩/Mask)，掩膜板与喷墨后的玻璃紧密接触，通过曝光技术，使图形转印到玻璃之上，完成原有印刷之功能。蚀刻加工中曝光显影是蚀刻工序前的一步重要的工序，曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上，然后通过机器定位或者人工定位的方式去将菲林对准，再将涂布感光油墨的蚀刻片置于菲林中间，固定后进行曝光。

摄影：在摄影中，曝光显影将场景中的光线信息记录在胶片上或电子传感器中，并通过显影将记录的信息转化为可见影像。半导体工业：在半导体加工中，曝光显影主要用于制造半导体芯片、液晶显示器等微电子器件。制版：在制造印刷版时，曝光显影用于将印刷图形转移到印刷版上。纳米加工：在纳米加工中，曝光显影技术用于制造纳米结构和纳米器件等。

曝光显影工艺流程是微电子芯片制造中的一项关键制程，其通常包括以下步骤：准备基础物质：先选择基础物质如硅片，并在其表面上涂上一层光刻胶。布图设计：根据芯片设计，制定合适的曝光和显影条件，并在计算机上生成掩模图形来辅助芯片制造。曝光：使用紫外线曝光机将掩膜上的图案投射到光刻胶上。显影：使用显影液将未曝光的光刻胶清除掉，将芯片图案暴露出来。

曝光一般在曝光机内进行，目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、同时曝光影响图案的线宽，过量曝光会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。所以好的办法是依据显影的干膜光亮程度，图像清晰度，图案线条与底片相符，曝光设备参数和感光性能，确定适合的曝光时间。

3D曲面玻璃的曝光显影技术的优势在于：在玻璃表面有极高的解像力，利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷解决的问题，具有精度高，量产性好，良率高等特点，采用曝光显影技术，遮蔽油墨可控良率可达90%以上。