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2分钟前 云浮音箱壳曝光显影供应信息推荐「多图」[利成感光38dbdb8]内容：曝光不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。曝光过度，会造成难显影，留有残胶。同时曝光影响图案的线宽，过量曝光会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。

曝光显影工艺主要应用于微电子加工中，是一种将芯片图案传递到硅片上的技术。

曝光显影工艺可以分为以下步骤：准备硅片：在硅片上涂覆光刻胶，将硅片和光刻胶一起加热，使其在表面形成均匀的光刻胶层。

显影工艺一般步骤如下：图2 显影工艺步骤1.预喷淋（p-wet）：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水（Deionizedwater，DIW）。2.显影喷淋（developer dispense）：曝光显影工艺流程说明：1. 洗版：将磁铁版放在洗版机中洗涤，消除污渍，使印版面干净、平整。2. 显影：将洗净的磁铁版放入显影机中显影，选择合适的膜粒大小，以便根据图案进行印刷。3. 曝光：使用灯光/照相机曝光，使磁铁版上的油墨凝固，形成良好...

曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光，对于空白的蚀刻钢片感光，蚀刻钢片上的感光油墨不被显影液所融化，曝光不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。曝光过度这些步骤相互整合，完成硅片的制造。在不同的制造要求下，整个曝光显影工艺过程的条件和具体流程可能会有所不同。