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2分钟前 音箱盒曝光显影厂商来电咨询「利成感光」[利成感光38dbdb8]内容：用负显影工艺可以实现较窄的沟槽，负显影工艺已经被广泛用于20纳米及以下技术节点的量产中显影工艺一般步骤如下：图2 显影工艺步骤1.预喷淋（p-wet）：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。

曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光，对于空白的蚀刻钢片感光，蚀刻加工中曝光显影是蚀刻工序前的一步重要的工序，曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上，然后通过机器定位或者人工定位的方式去将菲林对准，再将涂布感光油墨的蚀刻片置于菲林中间，固定后进行曝光。在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：E2喷嘴，LD喷嘴，GP喷嘴，MGP喷嘴等。音箱盒曝光显影厂商音箱盒曝光显影厂商音箱盒曝光显影厂商音箱盒曝光显影厂商

曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光，对于空白的蚀刻钢片感光，蚀刻钢片上的感光油墨不被显影液所融化，曝光不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。曝光过度这些步骤相互整合，完成硅片的制造。在不同的制造要求下，整个曝光显影工艺过程的条件和具体流程可能会有所不同。