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8分钟前 新沂电话壳曝光显影生产厂家询价咨询 东莞利成感光五金[利成感光38dbdb8]内容:3D玻璃遮蔽可以移印,贴合,曲面角度小还是可以做贴合工艺;还有就是曝光显影;比如vivo X21,是中间贴膜,四周用喷墨曝光显影补线方式。将需要的图形根据油墨的感光特性制成掩膜板(光罩/Mask),掩膜板与喷墨后的玻璃紧密接触,通过曝光技术,使图形转印到玻璃之上,完成原有印刷之功能。蚀刻加工中曝光显影是蚀刻工序前的一步重要的工序,曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上,然后通过机器定位或者人工定位的方式去将菲林对准,再将涂布感光油墨的蚀刻片置于菲林中间,固定后进行曝光。显影液去除并且清洗(rinse):达到显影时间后,使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止,而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中,晶圆显影工艺是指用显影液去除晶圆上部分光刻胶,形成三维的物理图形旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。甩干(spin dry):为了将表面的去离子水甩干,将硅片转到高转速准备基础物质:先选择基础物质如硅片,并在其表面上涂上一层光刻胶。布图设计:根据芯片设计,制定合适的曝光和显影条件,并在计算机上生成掩模图形来辅助芯片制造。曝光:使用紫外线曝光机将掩膜上的图案投射到光刻胶上。显影喷淋(developer dispense):在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上,显影喷嘴分为以下几种:E2喷嘴,LD喷嘴,GP喷嘴,MGP喷嘴等。曝光显影工艺主要应用于微电子加工中,是一种将芯片图案传递到硅片上的技术。
曝光显影工艺可以分为以下步骤:准备硅片:在硅片上涂覆光刻胶,将硅片和光刻胶一起加热,使其在表面形成均匀的光刻胶层。照射:使用紫外线辐射光源将芯片图案(或感光掩膜中的图案)通过掩膜传递到光刻胶层上。
只有对公差配合完全掌握,才能简单可靠的做出合格品。目前加工行业在致力打造喷涂曝光显影一条龙服务,这种表面装饰工艺可以克服贴合的一些不足,具备一定的优势,目前蓝思、伯恩的曝光显影加工工艺相对比较成熟。